科学家确认新的精神病遗传风险因子

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科技日报作者： 刘海英
  本报伦敦11月7日电 （记者刘海英）最近发表在《自然遗传学》杂志上的两篇论文称，有多国科学家参与的两项精神病学全基因组关联研究，最终确认了多个可导致精神分裂症和双相性精神障碍的遗传风险因子，并发现这两种精神病间存在着遗传重叠。这一发现不仅有助于科学家进一步了解这两种精神疾病的病因，也为开发新的精神病疗法带来了希望。

   精神分裂症和双相性精神障碍是两种常见的精神类疾病，前者最明显的症状是幻觉和妄想，后者的主要症状则是情绪波动剧烈。这两种疾病都与遗传有关，但由于其病因十分复杂，涉及到多个基因和环境因素，因此很难确认具体的遗传风险因子。

   为了找到具体的遗传风险因子，来自20多个国家的250多名科学家进行了两项精神病学全基因组关联研究，共有5万多名志愿者参与其中。最终，关于精神分裂症的全基因组关联研究确认了7个与该疾病相关的基因位点，其中有5个基因位点是首次确认；而关于双相性精神障碍的全基因组关联研究则确认了4个与此病相关的基因位点，其中1个为首次确认。科学家们将两项研究结果对照后发现，有3个基因位点与这两种疾病都有关连，这表明精神分裂症和双相性精神障碍之间存在遗传重叠。

   参与这两项研究的伦敦国王大学精神病研究所的大卫·克里尔教授表示，这两项精神病学全基因组关联研究是迄今为止最大的国际精神疾病基因研究合作项目之一，对于理解精神疾病病因，尤其是与大脑功能与发育相关的病因十分重要。同时，研究发现也有助于开发以大脑内分子为靶点的治疗药物，从而给开发新的精神疾病治疗方法带来了希望。

原文链接：http://www.stdaily.com/papergrou ... /content_373301.htm
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